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热丝CVD设备HWCVD MVS
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石墨烯CVD制备设备
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热丝化学气相沉积 HOT WIRE CVD SYSTEM
仪器简介:应用: -太阳能电池 多晶硅,N-Si, P-Si -Si3N4 薄膜 -防指纹处理技术参数:样品尺寸 : 4 ~ 8inch
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滑动式二硫化钼CVD制备设备
滑动式二硫化钼CVD制备设备 滑动式二硫化钼CVD制备设备一、滑动式二硫化钼CVD制备设备概述硫粉预热器采用管内测控温以保证在250℃以下,稳定控制
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溅射设备 MVS
MVS提供单靶材或多靶溅射设备。可根据用户需求定制。 制备透明导电薄膜 (如ITO,AZO)。 MVSystems, Inc. 由曼登博士(Dr. Arun Madan)创建于1989年。
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CVD专用氢气发生器
Precision Hydrogen Trace氢气发生器主要为CVD、GC等应用而设计,也可用做FID和FPD等检测器的燃烧气。一台发生器可同时为多台CVD提供气源。
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CVD用氢气发生器
HydroGen系列HG PRO 4000釆用新型长寿命多层PEM电解单元, 不使用酸性或碱性溶液。创新的PSA氢气干燥模块,确保最高等级的氢气纯度,完全免维护。 自动检查内部泄漏并持续控制运行参数
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PECVD MVS
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卷对卷柔性薄膜沉积设备 MVS
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美国TA DynTHERM LP 热重分析仪 用于CVD镀膜
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